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隨著半導體產業的快速發展，「化合物半導體」的新興應用和未來趨勢，是近年業界最熱門的議題之一，以碳化矽(SiC)與氮化鎵(GaN) 為主的第三代半導體應用逐漸落地。除此之外，擁有「第四代半導體」之稱的新一代超寬能隙材料氧化鎵（Ga₂O₃）和鑽石等新一代材料，將成為下一波矚目焦點。
本次將邀請產學界專家，針對碳化矽長晶技術、氮化鎵(GaN)製程技術與設備發展及第四代半導體氧化鎵（Ga₂O₃）的應用領域，從不同角度剖析進行經驗分享，共同探討新技術所帶來的變革與市場機會。
期盼能藉由本次研討會加速推進國內廠商有更多交流合作，為產業打造一個交流合作平台，以促進國內業者掌握產業趨勢及未來商機。
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